23.08.2002, 18:21 Uhr

Chip-Lithographie steckt tief in der Krise

Nikon und ASML, führende Hersteller von LithographieGeräten für Chips, streiten um Patente. Doch primär geht es für beide um den US-Markt.

Wenn man den angestaubten Begriff des „triadischen“ Technologiewettlaufs Japan-USA-Europa noch einmal aus der Schublade ziehen will – hier ist ein abschreckendes Beispiel: der Rechtsstreit zwischen dem europäischen Hersteller von Chip-Lithographiesystemen ASML im holländischen Veldhoven und dessen japanischem Wettbewerber Nikon in Tokio, auf dem Weltmarkt die Nummer Eins.
Worum dreht sich der Streit der beiden technologisch führenden Lithographie-Anbieter? Um den Zugang zu ihrem wichtigsten Markt, den USA. Genauer, um ihren wichtigsten Kunden, Intel – den größten Chipmacher der Welt. Und damit natürlich um die Weltmarktdominanz der Ausrüster für die 300-mm-Waferfabs der nächsten Chipgeneration.
Und wie immer, wenn es um den guten Ruf geht, ist der Fall seit Anfang des Jahres zu einer Serie von Millionen teuren Klagen und Gegenklagen vor amerikanischen und japanischen Gerichten eskaliert. Letzter aktueller legaler Schuss: ASMLs Patentklage gegen Nikon vor einem Gericht in Tokio vom 20. August. Gegenstand: Nikons Waferhandler. Schadenssumme: 97 Mio. €.
Das soll Nikons ursprüngliche Patentklage gegen ASML kontern und ASMLs Gegenklage vor einem US-Bundesgericht in Nordkalifornien besser stützen. Nikon sieht insgesamt sieben seiner US-Patente für die Chip-Lithographie durch ASML verletzt. ASML habe sie unrechtmäßig benutzt und in den USA vermarktet. Da geht es um minutiöse Konstruktionsdetails der Stepper und Scanner, mit denen die wenige hundert Nanometer großen Transistorstrukturen auf die Siliziumwafer aufbelichtet werden.
Außerdem schwebt da, politisch eigentlich schwerwiegender, eine Beschwerde Nikons gegen ASML vor der International Trade Commission (ITC), einer Regierungsbehörde in Washington. Die befindet und urteilt in der Regel über unfaire Handelspraktiken, in den meisten Fällen Copyright- oder Patentverletzungen von Importeuren zum Schaden heimischer US-Industrien.
Nikons Beschwerde vor der ITC läuft seit dem 21. Dezember 2001. Sie soll jetzt ab dem 4. September verhandelt werden. Bis Ende April nächsten Jahres soll sie entschieden sein. AMSLs Abwehrstrategie in Form einer symmetrischen Gegenbeschwerde wegen der Verletzung von ASML-Patenten seitens Nikon wurde an ein Bundesgericht in Arizona (dem US-Sitz von ASML) überwiesen. Sie wird frühestens 2004 verhandelt.
Nun entbehrt gerade die Beschwerdeprozedur vor der ITC, wie das Wall Street Journal bemerkt, nicht einer gewissen Pikanterie. Denn wenn die Entscheidung gegen die europäische ASML ausfallen sollte, sagt ASML-Sprecher Tom McGuire, würde damit erst recht der US-amerikanischen Industrie geschadet: „ASMLs Geschäft ist für die USA strategisch sehr relevant.“ Bei einem solchen Ausgang müsse, so McGuire recht vollmundig, der US-Präsident intervenieren: „Ich glaube nicht, dass er den gesamten Equipment-Markt in den Händen zweier japanischer Firmen sehen möchte.“
Der andere japanische Anbieter, im Umsatz deutlich hinter Nikon, ist der frühere, langjährige Marktführer Canon. Über die gegenwärtige, im Zeichen der Double-Dip-Chiprezession seit 2001 stark fluktuierende Rangfolge von Nikon, Canon und ASML in einem US-Jahresmarkt von insgesamt etwa 4,8 Mrd. Dollar sind sich die Marktforscher nicht einig. In den USA halten Nikon und ASML mit ihren Lithographiesystemen jedenfalls einen Marktanteil von je 30 %.
Die Pikanterie der ITC-Prozedur liegt auch darin begründet, dass ASML im letzten Jahr den einzig verbliebenen, hoch angesehenen, aber durch den japanischen Wettbewerb geschwächten US-Lithographieanbieter Silicon Valley Group (SVG) übernommen hatte. Allerdings, wegen dessen strategischer Bedeutung, gegen den langen und zähen Widerstand des US-Kongresses und dessen „Committee on Foreign Investment in the U.S.“
(CFIUS). Die Übernahme ging nur mit gewissen Auflagen zum Informationsfluss zwischen ASML und der SVG-Tochter Tinsley Laboratories durch. Eine Zwangsentflechtung von ASML und SVG im Gefolge der Nikon-Klage ist aber technologisch wie regulatorisch kaum denkbar.
Der erbitterte Patentstreit unter Anrufung der US-Regierung reflektiert zwei Entwicklungen: Die Lithographie für Chipstrukturen unter 100 nm ist zu einem äußerst kritischen Engpass der Halbleiter-Prozesstechnologie geworden. Sie wird im Wesentlichen nur von den drei erwähnten Anbietern langfristig beherrscht und erfordert immense Mitteleinsätze in F&E. Und die seit mehr als einem Jahr beharrlich anhaltende Halbleiter-Rezession mit dem Stopp vieler neuer Waferfab-Projekte tut ihr Übriges zur trüben Stimmungslage.
Das zeigt – und durch den Bericht im Wall Street Journal vom 7. August wurde das auch einem breiteren Publikum von Investoren klar – wie sehr die expansive Dynamik der Chip-Evolution inzwischen durch ein verbissenes Ringen um jeden einzelnen Auftrag abgelöst worden ist. Im Falle der Kontrahenten Nikon und ASML geht es also auch um Prestige und Bonität.
WERNER SCHULZ

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